TERMİYONİK VAKUM ARK İLE ÜRETİLEN InGaAsN İNCE FİLMLERİN BAZI FİZİKSEL ÖZELLİKLERİ

Authors : Şadan KORKMAZ

Pages : 121-128

Doi:10.17482/uumfd.336442

View : 15 | Download : 8

Publication Date : 2017-08-29

Article Type : Research Paper

Abstract :Bu çalışmada InGaAsN ince filmler ilk defa farklı bir teknik olan Termiyonik Vakum Ark insert ignore into journalissuearticles values(TVA); tekniği ile üretilmiştir. InGaAsN ince filmler üretilirken TVA üretim parametreleri belirlenmiştir. İnce filmler üç farklı alt taş üzerine gerçekleştirilmiştir. Bunlar cam, Si ve Polietilen tereftalat insert ignore into journalissuearticles values(PET); alt taş malzemedir.   Üretilen ince filmlerin XRD analizleri ile kristal yapıları aydınlatılmaya çalışılmıştır. Yüzey bileşenleri için EDX analizi kullanılmıştır. Filmlerin yüzey oluşumları atomik kuvvet mikroskobu ile görüntülendi. UV-Vis spektrofotometresi ile elde edilen soğurma değerlerinden ise yapıların yasak enerji aralıkları değerleri incelenmiştir.   Sonuçlara göre, farklı alt taşlar üzerine farklı atomik bileşimler elde edilmiştir.
Keywords : InGAsN, Yüzey özellikleri, Optik özellikler, İnce film