Yüzey aktif maddelerin ileri oksidasyon prosesleri ile arıtımı: Proses optimizasyonu ve toksisite analizi

Authors : İdil ARSLAN-ALATON, Tuğba ÖLMEZ-HANCI, Özlem KARAHAN, İlke PALA, Derin ORHON

Pages : 69-80

View : 16 | Download : 9

Publication Date : 2011-12-31

Article Type : Research Paper

Abstract :Bu çalışma kapsamında, ülkemizde ve dünyada ticari olarak önem taşıyan tekstil ve kimya başta olmak üzere pek çok endüstride yoğun olarak kullanılan ve çevrede yarattıkları olumsuz etkilerden dolayı önem taşıyan noniyonik insert ignore into journalissuearticles values(nonil fenol etoksilat);, anyonik insert ignore into journalissuearticles values(dioktil sülfosuksinat); ve katyonik insert ignore into journalissuearticles values(kuaterner amonyum etoksilat); türü yüzey aktif maddelerin insert ignore into journalissuearticles values(YAM); Foto-Fenton ve H2O2/UV-C ileri oksidasyon prosesleri ile arıtılabilirlikleri incelenmiştir. Yapılan ön arıtılabilirlik deneyleri sonucunda, incelenen fotokimyasal ileri oksidasyon proseslerinin yüzey aktif maddelerin arıtımı için uygun ve etkin olduğu saptanmıştır. Yüzey aktif maddelerin fotokimyasal arıtımı için seçilen H2O2/UV-C ileri oksidasyon prosesi Cevap Yüzey Yöntemi kullanılarak ana madde, KOİ ve TOK giderimleri açısından modellenip, optimize edilmiştir. H2O2/UV-C prosesi ile yapılan arıtılabilirlik çalışmalarında giriş KOİ değerinin, reaksiyon süresinin ve H2O2 konsantrasyonunun insert ignore into journalissuearticles values(proses bağımsız değişkenleri); ana madde, KOİ ve TOK giderim verimleri insert ignore into journalissuearticles values(proses çıktıları/bağımlı değişkenleri); üzerindeki etkileri araştırılmıştır. Yapılan deneysel tasarım çalışmaları sonucunda proses çıktılarını bağımsız değişkenler cinsinden tanımlayan ikinci dereceden eşitlikler türetilip geçerlilikleri istatistiksel araçlar kullanılarak sorgulanmıştır. Yüzey aktif maddelerin H2O2/UV-C prosesi ile ileri oksidasyonunun Cevap Yüzey Yöntemi ile yeterli hassasiyetle modellenebildiği sonucuna varılmıştır. Farklı giriş KOİ değerleri için optimize edilen reaksiyon koşullarında yürütülen fotokimyasal oksidasyon deney sonuçlarının model çıktıları ile uyum gösterdiği gözlenmiştir. Çalışmanın son aşamasında ise yüzey aktif maddelerin ve fotokimyasal oksidasyon ürünlerinin toksisiteleri aktif çamur inhibisyon testi ile belirlenmiştir. Deneysel çalışma sonuçları ışığında YAM içeren çözeltilerin heterotrofik biyokütle üzerindeki inhibisyon etkilerinin fotokimyasal arıtma ile çok yüksek oranda azaltıldığı ve oksidasyon süresi boyunca oluşan oksidasyon ara ve son ürünlerin toksik etkisinin olmadığı söylenebilmektedir.
Keywords : Anyonik katyonik ve noniyonik yüzey aktif maddeler, H2O2 UV C arıtımı, cevap yüzey yöntemi, optimizasyon, aktif çamur inhibisyonu